金融界 2024 年 10 月 29 日音讯，国家知识产权局信息数据显现，浙江同越光学科技有限公司请求一项名为“进步 X 射线光源光谱纯度的多层膜反射镜外表帽层结构”的专利，公开号 CN 118824594 A，请求日期为 2024 年 8 月。

　　专利摘要显现，本发明公开了一种进步 X 射线光源光谱纯度的多层膜反射镜外表帽层结构，包含 X 射线周期反射多层膜和外表帽层结构，所述外表帽层结构坐落 X 射线周期多层膜的顶部。帽层结构为单层膜，资料经过特别挑选厚度经过优化本发明选用上述进步 X 射线光源光谱纯度的多层膜反射镜外表帽层结构，改动传统的多层膜结构，经过在外表添加一层特别的资料的吸收层，该资料的共振吸收边介于 Kα和 Kβ谱线波长之间，以此来完成对 X 射线光管 Kα特征谱线的吸收小，但对 Kβ谱线的吸收大，在确保多层膜作业反射率和带宽的一起，按捺 Kβ谱线的强度，进步光谱纯度。